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商品名称:三维光学形貌仪 大范围成像

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产品详情

适用范围:

三维光学形貌仪具有高速扫描、多种成像技术和高分辨率,为大范围样品表面成像提供解决方案。

6合1成像分析:白光干涉+共聚焦+光谱膜厚+亮、暗场+变焦+AFM

同一平台上多个光学器件的6合1组合允许以纳米分辨率测量多种类型的样品。


技术特点:

高速相机200 FPS的高速相机
超高的分辨率Z向亚纳米级分辨率与物镜倍率或扫描距离无关
模块化平台可以定制300x300 mm的精密XY载物台,以适应不同规格的样品。(晶圆、器件、薄膜、组件等)。
分析软件准确且易于使用,符合ISO标准,自动分析、生成报告。


转盘共聚焦,快速面扫描:

高XY分辨率的三维光学形貌仪。转盘共聚焦扫描技术比单点共聚焦扫描更快、更好,后者需要移动XY平台或反射镜来生成三维图像。我们的共聚焦显微镜利用密集的针孔,以物理方式防止散射光进入光路。这去除了噪音并提高了图像的分辨率,为透明层、大坡度、低反射率的样品生成准确的数据。


白光干涉:

白光干涉是三维光学形貌测量中Z向分辨率zui高的技术。针对平滑样品可使用相移扫描方式,针对粗糙样品可使用白光干涉模式。高速相机提供200PSI扫描帧速,在1秒内生成三维形貌。


暗场模式:

暗场成像模式用于检测裂缝和缺陷,获取高对比度和高分辨率图像。


快速膜厚测量:

薄膜厚度测量模块通过光谱反射来获得表面涂层的厚度,操作方便,提供广泛的材料库(500+)和多样品测量利于膜厚分析。


原子力显微镜(AFM):

AFM提供原子级分辨率,具有多种测试模式,可以轻松测量粗糙度、缺陷、微纳尺寸。


变焦成像,亮场成像:

通过在不同焦平面上采集的一系列表面图像,创建完整的样品三维形貌信息。


工厂展示

  • 工厂展示

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